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鍍液組成及工藝條件 |
適用范圍 |
一般開缸用量 |
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銅 |
180－220克/升 |
200克/升 |
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純 |
30－40克/升 |
33毫升/升 |
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氯離子 |
70－140毫克/升 |
100毫克/升 |
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開缸劑810Mu |
6－8毫升/升 |
6毫升/升 |
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主光劑810A |
0.4－0.6毫升/升 |
0.5毫升/升 |
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主光劑810B |
0.3－0.5毫升/升 |
0.3毫升/升 |
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溫度 |
20－35℃ |
24－28℃ |
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陰極電流密度 |
1－6安培/平方分米 |
3－5安培/平方分米 |
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陽極電流密度 |
0.5－2.5安培/平方分米 |
0.5－2.5安培/平方分米 |
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陽極 |
磷銅角（0.03-0.06%磷） |
磷銅角（0.03－0.06%磷） |
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電壓 |
1.5－6伏（V） |
1.5－6伏（V） |
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攪拌方法 |
空氣或機械攪拌 |
空氣或機械攪拌 |
鍍液配制方法：
2 在預備槽中加入二分之一的水，加熱至40－50℃；所用水的氯離子含量應低于70毫克/升，加入所需的銅，攪拌使其完全溶解。
2 加入2.0克/升的活性碳，攪拌一個小時以上，然后用過濾泵將鍍液濾入清潔的電鍍槽中，加水至接近水位。
2 慢慢加入所需的純，同時進行強烈的攪拌，以保持鍍液的溫度不超過60℃。
2 將鍍液冷卻至25℃后；再根據(jù)鍍液中氯離子的含量，添加或氯化鈉，以使氯離子的含量達到標準值。
2 后加入以上的各種添加劑，以0.5安培/平方分米的電流電解大約2小時，便可以開始電鍍。
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